Литограф выпускающий 150-нанометровые чипы создан в России.
Российская микроэлектроника делает важный шаг вперед: Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) представил собственную установку электронно-лучевой литографии. Сейчас два первых аппарата проходят финальную проверку, которая займет около четырех месяцев.
Главная особенность этой разработки — возможность «рисовать» топологию микросхем прямо на кремниевой пластине, минуя этап создания дорогостоящих фотошаблонов. Технология с проектными нормами 150 нм идеально подходит для задач, где не требуется массовый конвейерный выпуск: это создание прототипов, научные исследования и производство мелкосерийных партий чипов, например, для нужд космоса.
Хотя электронно-лучевой метод проигрывает традиционной фотолитографии в скорости, он незаменим для гибкой разработки, где нужно быстро протестировать новую архитектуру без лишних затрат на сложную оснастку.
Стоит отметить, что это не первый успех ЗНТЦ в области литографического оборудования. Ранее центр уже выпустил фотолитограф с разрешением 350 нм, а сейчас инженеры активно трудятся над следующей ступенью — оборудованием с нормами 130 нм. Эти разработки постепенно формируют технологический фундамент для создания отечественной компонентной базы.